ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的研發(fā)投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù)，包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。 可應(yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表...

　　Mapping系列光譜橢偏儀是全自動(dòng)高精度Mapping繪制化測(cè)量光譜橢偏儀，配置全自動(dòng)Mapping運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量，快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片的膜厚及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測(cè)量表征。

　　SE-VM是一款高精度快速測(cè)量光譜橢偏儀,可實(shí)現(xiàn)科研/企業(yè)級(jí)高精度快速光譜橢偏測(cè)量，支持多角度、微光斑、可視化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，支持多功能模塊定制化設(shè)計(jì)。

　　SR-M 針對(duì)特定微小區(qū)域，可提供微米級(jí)的聚焦光斑，同時(shí)利用顯微物鏡定位測(cè)量點(diǎn)，從而獲取精準(zhǔn)位置的厚度表征結(jié)果。

　　SR-Mapping反射膜厚儀是超快速薄膜表征儀器，通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射光譜，從而測(cè)量薄膜的厚度及光學(xué)常數(shù)。

　　SR-C 緊湊型高精度反射膜厚儀，利用光學(xué)干涉原理，通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射光譜，快速準(zhǔn)確測(cè)量薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等信息。